光催化氧化法除臭原理

光催化氧化法采用催化劑可以加速液相氧化分解惡臭物的速率。

利用二氧化钕作爲催化劑的光催化氧化法對(duì)惡臭有較好(hǎo)的去除作用。在近20年的研究 過(guò)程中發(fā)現光催化技術直接用空氣中的02作氧化劑，反應條件溫和（常溫、常壓），對(duì)幾 乎所有污染物均具有淨化能(néng)力。常見的光催化劑多爲金屬氧化物或硫化物，如TiC)2、ZnO、 ZnS、CdS及PbS等。

但由于光腐蝕和化學(xué)腐蝕的原因，實用性較好(hǎo)的有TiC)2 *ZnO，其 中丁102使用最爲廣泛。Ti02的綜合性能(néng)最好(hǎo)，其光催化活性高（高于ZnO)，化學(xué)性質穩 定，氧化還(hái)原性強，難溶，無毒且成(chéng)本低，是研究及應用最廣泛的單一化合物光催化劑。半 導體光催化作用的本質是在光電轉換中進(jìn)行氧化還(hái)原反應。根據半導體的電子結構，當其吸 收一個能(néng)量不小于其帶隙能(néng)（?g)的光子時(shí)，電子（e_)會(huì)從充滿的價帶躍遷到空的導帶， 而在價帶留下帶正電的空穴（h+)。價帶空穴具有強氧化性，而導帶電子具有強還(hái)原性，它 們可以直接與反應物作用，還(hái)可以與吸附在催化劑上的其他電子供體和受體反應。例如空穴 可以使H20氧化，電子使空氣中的02還(hái)原，生成(chéng)H2()2、.OH基團和Hoy,這(zhè)些基團 氧化能(néng)力都(dōu)很強，能(néng)有效地將(jiāng)惡臭污染物氧化，最終將(jiāng)其分解爲co2、H20等無機小分子， 達到消除惡臭的目的。

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